Ledová maska

13.11.2010

Anpan Han se svými kolegy z Harvard University využívají při litografické výrobě elektronických součást led. Nejprve vytvoří vrstvu uhlíkových nanotrubic, kterou ve vakuu ochladí na 110 K. Do komory vpustí nepatrné množství vodní páry, která okamžitě pokryje vzorek teninkou vrstvičkou amorfního ledu. Paprskem elektronů do ní vyřežou požadované vzory, pokryjí celý povrch vrstvou paladia a vloží do isopropanolu laboratorní teploty. Led se okamžitě rozpustí, takže kovové kontakty zůstanou tam, kde je chceme mít. Využívání nejrůznějších masek při litografických technikách je celkem běžné, doposud však nikdo nepracoval s tak snadno odstranitelnou.

 
Odeslat komentář k článku "Ledová maska "



Opište text z obrázku:

Odeslat článek "Ledová maska " e-mailem

Diskuse/Aktualizace